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硅片燒結(jié)升降爐原理

 更新時間:2025-04-17 點擊量:65

邦世達硅片燒結(jié)升降爐的原理基于精準溫控、氣氛調(diào)控與機械升降的協(xié)同作用,專為硅片燒結(jié)工藝設計,實現(xiàn)穩(wěn)定的材料處理。

1. 溫控系統(tǒng)

采用PID智能溫控儀表,可預設多段升溫、恒溫、降溫程序,溫度控制精度達±1℃。通過硅碳棒或硅鉬棒加熱元件,配合雙層爐殼風冷系統(tǒng)及輕質(zhì)保溫材料,確保爐內(nèi)溫度均勻性,滿足硅片燒結(jié)對溫度穩(wěn)定性的嚴苛要求。

2. 爐體升降結(jié)構(gòu)

電動環(huán)狀銷輪減速器驅(qū)動爐體沿內(nèi)外軌道升降,裝卸料時爐體下降至低位,減少搬運震動對硅片的損傷;燒結(jié)時爐體上升至高溫區(qū),實現(xiàn)密閉環(huán)境下的均勻加熱。

3. 氣氛控制

通過氣體流量計向爐內(nèi)通入氮氣、氫氣等保護氣氛,防止硅片氧化。高精度熱電偶實時監(jiān)測爐內(nèi)氣氛及溫度,確保燒結(jié)過程的氣體純度與溫度一致性。

4. 安全與自動化

爐門開啟時自動斷電,配備過流、限流、過熱保護功能,確保操作安全。支持程序化運行,用戶可一鍵啟動預設工藝,減少人工干預,提升生產(chǎn)效率。

邦世達升降爐通過模塊化設計,兼顧高溫穩(wěn)定性與操作便捷性,適用于半導體、電子陶瓷等領(lǐng)域的小批量生產(chǎn)與科研實驗。


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